淮南市部分集成電路設計企業(yè)對于申請布圖設計登記能為企業(yè)帶來多少好處不是很了解，也擔心技術(shù)會因此泄密，小編就集成電路布圖設計登記申請進行介紹。

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根據(jù)布圖設計保護條例，布圖設計權(quán)利人享有的權(quán)利如下：

1. 對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制；

2. 將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業(yè)利用。

未經(jīng)權(quán)利人許可的以下行為構(gòu)成侵權(quán)：

1. 復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分的；

2. 為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

布圖設計專有權(quán)的保護范圍不包括制造行為，而且比專利的壟斷性保護力度要小，但申請保護的門檻也相應較低，只要具有獨創(chuàng)性，即該布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果，并且不是公認的常規(guī)設計即可。

通過反向工程，獲取他人的技術(shù)秘密是合法的，但通過此途徑獲取已申請布圖設計保護的方案，則構(gòu)成侵權(quán)行為。因此在技術(shù)秘密難以有效保護的情況下，比如企業(yè)的內(nèi)部機制難以有效防止秘密外泄，或者技術(shù)方案容易被競爭對手通過反向工程獲取等，可考慮申請布圖設計登記進行保護。

布圖設計所享有的權(quán)利，并不僅是將布圖設計作為整體進行保護，對于設計中任何一個具有獨創(chuàng)性的部分也進行保護，這樣，即使競爭對手對于非法獲取的整體方案進行改動，只要有些設計模塊沒有相應更改，比如一些不容易繞開的模塊，那么也構(gòu)成侵權(quán)。

在鉅泉光電訴上海雅創(chuàng)等侵害集成電路布圖設計專有權(quán)糾紛一案中，法院認為布圖設計中的那些基本電路或者起輔助性功能的部分只要滿足獨創(chuàng)性以及非公認的常規(guī)設計也應受到保護。

布圖設計專有權(quán)的侵權(quán)行為成立的，權(quán)利人可要求侵權(quán)人立即停止侵權(quán)行為，并承擔賠償責任，包括權(quán)利人為制止侵權(quán)行為所支付的合理開支，比如律師費、公證費等，這在一定程度上有效地支持了權(quán)利人進行維權(quán)。

布圖設計的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起計算，以較前日期為準。無論是否登記或者投入商業(yè)利用，布圖設計自創(chuàng)作完成之日起15年后，不再受保護。

我國對集成電路布圖設計保護實行登記保護的原則，保護的起始時間為布圖設計申請日，布圖設計的商業(yè)利用時間在先，并不意味著其布圖設計專有權(quán)權(quán)利應優(yōu)先受到保護。并且，登記申請需在世界任何地方首次商業(yè)利用之日起２年內(nèi)提出。

企業(yè)關(guān)于申請布圖設計登記后可能泄密的擔憂是可以理解的。確實，布圖設計登記公告后，公眾可以查閱布圖設計的復制件或者圖樣，有觀點認為 這是類似于專利制度的“公開換保護”的原則，盡管該觀點存在爭議。申請布圖設計登記時，申請者需要提供布圖設計的復制件或者圖樣，可選提供的是布圖設計的電子版，如果已投入商用，則樣品也需提供。但公眾只能查閱復制件或圖樣的紙件，并不能獲取電子版，以及樣品。

企業(yè)關(guān)于申請布圖設計可能泄密的擔憂可以通過在申請登記時申明有保密信息來解決，保密信息的比例可達到整個布圖設計的50%，保密信息部分不對公眾公開。需要注意的是申請保密信息要求在申請日前該布圖設計尚未投入商業(yè)利用。

申請布圖設計登記時，申請人可決定將設計方案的全部或者部分進行申請登記，但需要特別關(guān)注的是，申請的布圖設計的圖樣、復制件需清晰，且相對完整，應是至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置。

提交的布圖設計的復制件或者圖樣，應當至少放大到用該布圖設計生產(chǎn)的集成電路的20倍以上，其將作為后期維權(quán)時進行對比的主要載體，申請時提交的樣品只是輔助，不能起到替代作用。

最后，企業(yè)可根據(jù)技術(shù)方案特點及競爭情況，確定申請專利保護，布圖設計保護，還是以技術(shù)秘密方式進行保護。

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